reaktioner och bildningentalpier
Frågan:
Kvävetriflourid, NF3, är en färglös gas med bildningsentalpin ΔH0f=−114kJ/mol. Kvävetriklorid, NCl3 är en gul olja med bildningsentalpin ΔH0f=230kJ/mol. Vilka slutsatser går det att dra om ämnenas stabilitet utifrån värdena på bildningsentalpierna?
Jag vet att svaret ska vara att NF3 är det stabila ämnet, men förstår inte varför. Borde det inte vara NCl3 då den är endoterm och den kräver energi för att reagera? En exoterm reaktion kan ju reagera utan någon extra energi, gör inte det att den är ostabil? Jag tänker ädelgaser tex, de vill ju inte heller reagera och de är stabila.
ΔHf är entalpin hos det bildade ämnet minus entalpin hos de fria grundämnena. Om det har frigjorts energi när ämnet bildades (om det varit en exoterm reaktion) är entalpin hos produkten mindre än entalpin hos ursprungsämnena, d v s (negativt tal)-0 = negativt tal.
NCl3 har bildats genom en endoterm reaktion. Man har tillfört energi för att den skall kunna bildas. Det är en energirik förening.
NF3 har bildats genom en exoterm reaktion. Det har frigjorts energi när det bildades. Det är en energifattig förening.
ΔHf för ädelgasena är 0 eftersom nollnivån är själva grundämnena.
Så om ett ämne har bildats genom en exoterm reaktion är det mer stabilt än ett annat som bildats av en endoterm reaktion, har jag förstått det rätt?
Ja, i stort sett åtminstone. Det spelar roll vad man har för ursprungsämnen.
